بهینه سازی پارامترهای مؤثر در فرایند تلفیقی اکسایش و اکسایش نوری برای حذف اکسی تتراسایکلین توسط نانو ذره های آهن

با توجه به مشکل ساز بودن دفع مستقیم پساب دارای آنتی بیوتیک ها به محیط زیست و بروز مشکل­ های جدی در محیط همانند مقاومت ژنتیکی، تصفیه پساب این صنایع از اهمیت ویژه ­ای برخوردار است. در این پژوهش افزون بر بررسی تصفیه پذیری یکی از پرمصرف ترین آنتی بیوتیک ها، اکسی تتراسایکلین توسط نانو ذره ­های آهن، قابلیت اکسایش و فتوکاتالیستی لایه آهن اکسید تشکیل شده بر سطح نانو ذره­های آهن نیز بررسی شد. ابتدا پارامترهای مؤثر در حذف اکسی تتراسایکلین توسط فرایند تلفیقی اکسایش و اکسایش نوری بررسی و بهینه شدند که طبق نتیجه­ های به دست آمده در شرایط بهینه، از نانو ذره­ های آهن با غلظت mg/l 1000 برای حذف mg/l 155 اکسی تتراسایکلین در ph برابر 3، تابش uv با توان w 200 در مدت زمان 5/6 ساعت استفاده شد که مقدارهای حذف در طول موج های 290 و 348 نانومتر، toc و cod به ترتیب 87، 95، 85 و 89 درصد به دست آمدند. پس از گذشت 14 ساعت، میزان همه این پارامترها بیانگر تجزیه کامل اکسی­تتراسایکلین بود. همچنین طبقنتیجه آنالیز xrd ، feo و feooh ، لایه اکسید تشکیل شده بر سطح نانو ذره­ ها شناسایی شده و اثرهای مثبت فتوکاتالیستی آن در فرایند حذف توسط آزمایش های شاهد مورد بررسی قرار گرفت. بررسی اثر جداگانه هوادهی، پرتودهی فرابنفش و اکسایش توسط نانو ذره­ه ای آهن در تاریکی و مقایسه نتیجه­ ها با شرایط تلفیقی (نانو ذره­های آهن در مجاورت تابش فرابنفش) نشان دهنده­ی برتری فرایند تلفیقی در فرایند حذف بود.